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Enregistrement W4285726022 · doi:10.1051/epjap/2022220062

Study of electrical properties of Al/Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>/<i>n</i>-GaAs MIS capacitors deposited at low and high frequency PECVD

2022· article· en· W4285726022 sur OpenAlexaff
Wafaa Zibar, Olivier Richard, Asmaa Drighil, T. Lachhab, Hasna Mziouek, Vincent Aimez, Abdelatif Jaouad, Rhma Adhiri

Notice bibliographique

RevueThe European Physical Journal Applied Physics · 2022
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueSemiconductor materials and devices
Établissements canadiensInstitut interdisciplinaire d'innovation technologiqueUniversité de Sherbrooke
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésPlasma-enhanced chemical vapor depositionPassivationMaterials scienceSilicon nitrideOptoelectronicsSiliconAnnealing (glass)Electronic engineeringAnalytical Chemistry (journal)NanotechnologyChemistryComposite materialLayer (electronics)

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

As for silicon, surface passivation of GaAs and III-V semiconductors using silicon nitride (Si 3 N 4 ) deposited by plasma enhanced chemical deposition (PECVD) is widely used to improve devices and circuits stability, reliability and for encapsulation. In this work, the effect of plasma excitation frequency in the PECVD reactor on the surface passivation efficiency of GaAs during Si 3 N 4 deposition was investigated. Metal-Insulator-Semiconductor (Al/Si 3 N 4 / n -GaAs) capacitors are fabricated and characterized using capacitance–voltage ( C – V ), and conductance–voltage ( G – V ) to compare electronic properties of GaAs/Si 3 N 4 interfaces depending on the use of a high frequency PECVD (HF-PECVD) or low frequency (LF-PECVD) process. The drastic advantage of using the LF-PECVD technique for the passivation of GaAs is clearly demonstrated on the characteristic C – V at 1 MHz where a good surface potential was observed, while a quasi-pinned surface Fermi level was found when HF-PECVD was used. To unpin Fermi level, a sulfur pre-treatment prior before HF-PECVD deposition and post-metallisation annealing were necessary. A lower frequency dispersion and a lower hysteresis indicating low densities of slow traps were observed for MIS devices fabricated by LF-PECVD. The advantage of having an efficient passivation without sulfur treatment is important since ammonium sulfide used for this purpose is corrosive and difficult to adapt in industrial environment. The better electronic properties of GaAs/Si 3 N 4 interface were found for silicon nitride layers using LF-PECVD deposition. This can probably be associated with the high-level injection of H + ions on the semiconductor surface reducing thus the native oxides during the initial steps of dielectric deposition.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesMéta-épidémiologie (sens strict)
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,007
Score d'incertitude au seuil1,000

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0010,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,001
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,011
Tête enseignante GPT0,182
Écart entre enseignants0,171 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.

Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations2
Publié2022
Routes d'admission1
Résumé présentoui

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