Fabrication of the Highly Ordered Silicon Nanocone Array With Sub-5 nm Tip Apex by Tapered Silicon Oxide Mask
Pourquoi ce travail est dans la base
Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.
Notice bibliographique
Résumé
In view of the wide range of applications for ultra-sharp silicon (Si) nanocones, extensive research has been conducted on their fabrication processes. However, these conventional methods pose challenges in terms of achieving uniformity, controllability, and cost-efficiency. This study presents a novel approach to fabricating Si nanocone structures through reactive ion etching (RIE) using a tapered silicon dioxide mask, followed by thermal oxidation sharpening to reduce the apex diameter to 4 nm. Here the tapered SiO2 mask with a smooth sidewall was created through a combination of RIE and a buffered oxide etchant (BOE) etching. The lithography of the oxide mask is achieved using a cost-effective (compared to electron beam lithography) maskless aligner system (MLA). Subsequently, a non-switching pseudo-Bosch process, employing sulfur hexafluoride (SF6) gas and octafluorocyclobutane (C4F8) gas, is utilized for the etching the Si nanocone structures, resulting in an average apex diameter of 30 nm. Finally, thermal oxidation followed by oxide removal further sharpens these cones to 4 nm.
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Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle