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Enregistrement W4401871877 · doi:10.1117/12.3021426

Advances in plasma-based atomic layer processing of AlF3 for the passivation of broadband aluminum mirrors

2024· article· en· W4401871877 sur OpenAlex
Luis Rodríguez-de Marcos, Virginia D. Wheeler, Maria Gabriela Sales, Javier G. Del Hoyo, Mateo Batkis, Andrew C. Lang, Manuel A. Quijada, Edward J. Wollack, Scott G. Walton, David R. Boris

Pourquoi ce travail est dans la base

Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.

affAu moins un auteur déclare une institution canadienne dans l'instantané OpenAlex épinglé.

Notice bibliographique

Revuenon disponible
Typearticle
Langueen
DomaineMaterials Science
ThématiqueGa2O3 and related materials
Établissements canadiensNational Research Council Canada
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésAtomic layer depositionX-ray photoelectron spectroscopyPlasmaPassivationMaterials scienceThin filmAluminiumCoatingLayer (electronics)Deposition (geology)NanotechnologyOptoelectronicsOpticsPhysicsMetallurgy

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Efficient and uniform Aluminum-based broadband mirrors are essential components for far-ultraviolet (FUV) astronomy. Plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD) is a low temperature, highly conformal coating process that has previously been demonstrated to produce high quality AlF<sub>3</sub> films, although little has been reported on their performance in FUV applications. An ongoing collaboration between the US Naval Research Laboratory (NRL) and NASA Goddard Space Flight Center (GSFC) focuses on optimizing material properties of PEALD AlF<sub>3</sub> coatings on Al mirrors to enhance FUV optical performance. <br/> <br clear="all"/> PEALD AlF<sub>3</sub> films were deposited using trimethylaluminum and SF<sub>6</sub> plasma precursors in a modified Veeco Fiji G2 reactor. ALD growth windows (the range of process parameters resulting in ideal growth) were established using an in situ ellipsometer to monitor the fluoride growth rate directly on Al substrates and supplemented with post-deposition x-ray photoelectron spectroscopy to elucidate process-structure property relationships. Optimal AlF<sub>3</sub> films had a growth rate of 0.75-0.8Å/cycle, F/Al ratio of ≈3, &lt; 2 at% O, indicating that PEALD is a beneficial process technique towards achieving optical coatings on a variety of potential mirror materials. The influence of PEALD parameters on the FUV optical performance of Al mirrors overcoated with PEALD-AlF<sub>3</sub> will be also discussed.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,011
Score d'incertitude au seuil0,198

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,023
Tête enseignante GPT0,296
Écart entre enseignants0,273 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

En bref

Citations3
Publié2024
Routes d'admission1
Résumé présentoui

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