Electronic Passivation of Crystalline Silicon Surfaces Using Spatial‐Atomic‐Layer‐Deposited HfO<sub>2</sub> Films and HfO<sub>2</sub>/SiN<sub><i>x</i></sub> Stacks
Notice bibliographique
Résumé
Spatial atomic layer deposition (SALD) is applied to the electronic passivation of moderately doped (≈1016 cm−3) p‐type crystalline silicon surfaces by thin layers of hafnium oxide (HfO2). For 10 nm thick HfO2 layers annealed at 400 °C, an effective surface recombination velocity Seff of 4 cm s−1 is achieved, which is below what has been reported before on moderately doped p‐type silicon. The one‐sun implied open‐circuit voltage amounts to iVoc = 727 mV. After firing at 700 °C peak temperature in a conveyor‐belt furnace, as applied in the production of solar cells, still a good level of surface passivation with an Seff of 21 cm s−1 is attained. Reducing the HfO2 thickness to 1 nm, the passivation virtually vanishes after firing (i.e., Seff > 1000 cm s−1). However, by adding a capping layer of plasma‐enhanced‐chemical‐vapor‐deposited hydrogen‐rich silicon nitride (SiNx) onto the 1 nm HfO2, a substantially improved firing stability is attained, as demonstrated by Seff values as low as 30 cm s−1 after firing, which is attributed to the hydrogenation of interface states. The presented study demonstrates that SALD‐deposited HfO2 layers and HfO2/SiNx stacks have the potential to evolve into an attractive surface passivation scheme for future solar cells.
Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.
Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».