Inductively coupled plasma etching of InP using CH4/H2 and CH4/H2/N2
Notice bibliographique
Résumé
Inductively coupled plasma etching of InP in CH4/H2 and CH4/H2/N2 gas mixtures was studied to understand the etching mechanisms and the influence of etching gas composition on etching rate, etching profile, and surface morphology. CH4/H2 plasmas generally had higher etching rates than CH4/H2/N2 plasmas. Deterioration of InP surfaces, following etching, reflected the preferential loss of P over In due to the diffusivity and reactivity of H being higher than CH3 on InP surfaces, and also since PH3 is more volatile than In(CH3)3. In extreme circumstances, this can lead to the formation of In-rich droplets on the surface, with associated surface roughening. This was supported by the opposing trends of surface roughness (measured using atomic force microscopy) and P/In ratio (from x-ray photoelectron spectroscopy) as a function of the CH4 gas concentration for CH4/H2 gas mixtures. The addition of N2 to the CH4/H2 plasmas improved the surface morphology as N radicals reduced the rate of P removal by reacting with H radicals. However, an inevitable increase in the N+ and N2+ concentrations led to erosion of the SiO2 masks and caused sloping sidewalls.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,001 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,001 | 0,001 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,001 |
| Communication savante | 0,000 | 0,001 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».