MétaCan
Menu
Retour à la cohorte
Enregistrement W2043862383 · doi:10.1116/1.4900730

Determination of spot size and acid diffusion length in positive chemically amplified resist for e-beam lithography at 100 and 5 kV

2014· article· en· W2043862383 sur OpenAlexaff
F. Delachat, C. Constancias, Jérôme Rêche, B. Dal’zotto, Laurent Pain, Boris Le Drogoff, Mohamed Chaker, J. Margot

Notice bibliographique

RevueJournal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena · 2014
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueAdvancements in Photolithography Techniques
Établissements canadiensUniversité de MontréalInstitut National de la Recherche Scientifique
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésResistElectron-beam lithographyLithographyMaterials scienceDiffusionCathode rayOpticsGratingAnalytical Chemistry (journal)ChemistryElectronNanotechnologyOptoelectronicsPhysicsChromatography

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

An experimental method to determine the beam spot size and the acid diffusion length of a positive chemically amplified electron-beam resist (p-CAR) is proposed. This method is applied to a reference p-CAR with a Vistec VB6 electron beam at 100 kV and with a MAPPER tool at 5 kV. Beam spot size characterization is based on the width measurement of a single line exposure. This procedure is applied to two specific dose ranges. In the first one, the chemical mechanism occurring in the exposed resist is dominated by acid catalytic deprotection of a partially protected polymer (standard process). In the second dose range, the chemistry is governed by the cross-linking mechanism due to the intentional overdose of the p-CAR, leading to a polarity inversion. The authors assume that comparing the results obtained with the standard and the cross-linked p-CAR enables the determination of the acid diffusion length of the p-CAR process. This hypothesis was verified with measurements performed with a nonchemically amplified process. A relationship between the best exposure latitudes achieved at 5 and 100 kV and the minimum spot sizes determined with the present method is observed with very high resolution grating exposures. In this work, a suitable method is proposed for fine resist process characterization.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,002
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,046
Score d'incertitude au seuil0,824

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0020,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0010,001
Études des sciences et des technologies0,0000,001
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,007
Tête enseignante GPT0,224
Écart entre enseignants0,218 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.

Les modèles n’ont appliqué aucune catégorie : rien dans la taxonomie ne correspondait à ce travail.
Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations7
Publié2014
Routes d'admission1
Résumé présentoui

Explorer davantage

Même revueJournal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and PhenomenaMême sujetAdvancements in Photolithography TechniquesTravaux en français237 207