Void nucleation at a sequentially plasma-activated silicon/silicon bonded interface
Pourquoi ce travail est dans la base
Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.
Notice bibliographique
Résumé
Two 4 inch silicon wafers were directly bonded using a sequentially plasma-activated bonding method (i.e. O2 reactive ion etching (RIE) plasma followed by N2 microwave (MW) radicals) at room temperature. The bonded wafers were annealed from 200 to 900 °C in order to explore the nucleation of voids at the interface. The plasma-induced void nucleation was dominated by O2 RIE power over O2 RIE activation time. The thermal-induced void nucleation occurred preferentially at the plasma-induced defect sites. The nucleation of void density was quantitatively determined and explained using high-resolution transmission electron microscopy observations. The electron energy loss spectroscopy results revealed the existence of silicon oxide at the bonded interface. The reduction in bonding strength after annealing at high temperature is correlated to the increase in void density. The contact angle and surface roughness of the sequentially plasma-treated surfaces have been observed to explain the nucleation of voids and the reduction of bonding strength. The plasma-induced defect sites such as nanopores and craters have been identified using an atomic force microscope.
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Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,001 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle