MétaCan
Menu
Retour à la cohorte
Enregistrement W2077851897 · doi:10.1143/jjap.44.2294

Effects of the Metallurgical Properties of Upper Cu Film on Stress-Induced Voiding (SIV) in Cu Dual-Damascene Interconnects

2005· article· en· W2077851897 sur OpenAlex

Pourquoi ce travail est dans la base

Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.

fundUn bailleur canadien est enregistré sur le travail.
no affAucune affiliation canadienne : ce travail est invisible pour une base fondée sur la seule affiliation.
Aucune affiliation canadienne. Une base fondée sur la seule affiliation (le devis habituel) n'aurait jamais vu ce travail. C'est l'un des travaux qui justifient l'inversion de la base.

Notice bibliographique

RevueJapanese Journal of Applied Physics · 2005
Typearticle
Langueen
DomaineMaterials Science
ThématiqueCopper Interconnects and Reliability
Établissements canadiensnon disponible
Organismes subventionnairesNatural Sciences and Engineering Research Council of CanadaMacquarie University
Mots-clésMaterials scienceVoid (composites)Annealing (glass)CopperVacancy defectStress (linguistics)Composite materialCopper interconnectMetallurgyDiffusion barrierCrystallographyChemistry

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Stress-induced voiding (SIV) is a serious problem in Cu dual-damascene interconnects (DDIs). The stress gradient under vias is the driving force of vacancy diffusion and void generation, therefore stress control in Cu-DDI is an important factor for suppressing SIV. In this study, the stress effect of upper Cu film on SIV in lower Cu lines is investigated, and the stress distribution in Cu-DDI is analyzed by finite element analysis. It is found that SIV in the lower Cu lines is strongly affected not only by the width of lower lines but also by the metallurgical properties of the Cu film in upper metals. Suppression of tensile stress in the via of the upper Cu film decreases the stress gradient in the lower line around the via, and eventually, the driving force of vacancy diffusion to the via bottom. Control of the metallurgical properties to suppress Cu creep during annealing is a key factor for decreasing SIV in lower Cu lines. High-temperature deposition of Cu film with a small coefficient of thermal expansion (CTE) is a solution to suppressing SIV failure in Cu-DDIs.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,001
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,009
Score d'incertitude au seuil0,454

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0010,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0010,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,015
Tête enseignante GPT0,235
Écart entre enseignants0,220 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle