Enhanced adhesion of electron beam resist by grafted monolayer poly(methylmethacrylate-<i>co</i>-methacrylic acid) brush
Notice bibliographique
Résumé
In electron beam lithography, poor resist adhesion to a substrate may lead to resist structure detachment upon development. One popular method to promote resist adhesion is to modify the substrate surface. In this study, the authors will show that a poly(methylmethacrylate-co-methacrylic acid) [P(MMA-co-MAA)] monolayer “brush” can be grafted onto a silicon substrate using thermal annealing that leads to chemical bonding of the P(MMA-co-MAA) copolymer to the hydroxyl group-terminated substrate, followed by acetic acid wash to remove the bulk, unbonded copolymer. The monolayer brush has a thickness of 12 nm. The authors will show that it can greatly improve the adhesion of positive resist, the ZEP-520A, and negative resist polystyrene to bare silicon surfaces, which led to high resolution patterning without resist detachment upon development. The improvement was more dramatic when patterning dense sub-100 nm period grating structures. But the improvement was negligible for an aluminum substrate, because, even without the brush layer, resist adhesion to aluminum is found already to be strong enough to prevent resist structure peeling off. The current simple and low cost method could be very useful when resist adhesion to the substrate for a given developer is weak.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,003 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,001 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,002 | 0,002 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,001 |
| Communication savante | 0,000 | 0,001 |
| Science ouverte | 0,001 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,001 | 0,001 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».