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Enregistrement W2488472067 · doi:10.1117/3.601520.ch4

Modeling and Thin Film Effects

2009· book-chapter· en· W2488472067 sur OpenAlexaff
Harry Levinson

Notice bibliographique

RevueSPIE eBooks · 2009
Typebook-chapter
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueAdvancements in Photolithography Techniques
Établissements canadiensAdvanced Micro Devices (Canada)
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésResistBridge (graph theory)LithographyWaferTruckComputer scienceComputationAperture (computer memory)WorkstationNumerical apertureMechanical engineeringPoint (geometry)OpticsEngineeringMaterials scienceNanotechnologyAlgorithmElectrical engineeringPhysicsAutomotive engineeringGeometryMathematics

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Imagine if the only way to determine whether bridges were designed with sufficient strength to support the weight of fully loaded trucks was to build each bridge in its desired location according to an engineer's best guess, drive trucks across to see if the bridge collapsed, and redesign the bridge if it failed. This approach to bridge design is clearly impractical. What has made it possible to build large bridges are the mathematical theories of beams and plates enabling civil engineers to predict whether their designs will work or not, prior to construction. Similarly, advancements in lithography technology have been facilitated by the availability of predictive theoretical models and tools. Today, imaging performance can be simulated on personal computers and engineering workstations in order to determine what the design parameters should be for lenses that cost millions of dollars to fabricate. Lithography simulations involve several key steps: (1) The calculation of optical images. These are intensities I(x,y) in the plane of the wafer, that are applicable for low-numerical-aperture optics, or they can be fully three dimensional intensities I(x,y,z), that may be needed for accurate simulation of exposures using high-numerical-aperture lenses. (2) Prediction of the photochemical reactions resulting from the exposure of photoresist to the previously calculated light distributions. This provides a calculated state-of-exposure at every point (x,y,z) of interest in the resist film. (3) Computation of changes in chemical distributions within the resist as a consequence of diffusion that occurs during post-exposure bakes. (4) Calculation of resist profiles following resist development. Models for all of these key steps are discussed in this chapter.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction machine sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,002
Version: metacan-v3-hybrid-931329e0061cStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Simulation ou modélisation · Signal consensuel: Simulation ou modélisation
GenreSignal candidat: Méthodes · Signal consensuel: Méthodes
Score de désaccord entre enseignants0,012
Score d'incertitude au seuil0,037

Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,002
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0010,001
Méta-épidémiologie (sens large)0,0010,001
Bibliométrie0,0010,001
Études des sciences et des technologies0,0010,001
Communication savante0,0010,002
Science ouverte0,0020,001
Intégrité de la recherche0,0020,001
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0110,002

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,009
Tête enseignante GPT0,222
Écart entre enseignants0,212 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.

Les modèles n’ont appliqué aucune catégorie : rien dans la taxonomie ne correspondait à ce travail.
Devis d'étudeSimulation ou modélisation
Domainenon disponible
GenreMéthodes

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations0
Publié2009
Routes d'admission1
Résumé présentoui

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