Accessible, large-area, uniform dose photolithography using a moving light source
Notice bibliographique
Résumé
Abstract Photolithography is an essential microfabrication process in which ultraviolet (UV) light is projected through a mask to selectively expose and pattern a light-sensitive photoresist. Conventional photolithography devices are based on a stationary UV lamp and require carefully-designed optics to ensure that a uniform exposure dose is provided across the substrate being patterned. Access to such systems is typically limited to certain labs with domain-specific expertise and sufficient resources. The emergence of light emitting diode (LED)-based UV technologies has provided improved access to the necessary light sources, but issues with uniformity and limited exposure sizes still remain. In this work, we explore the use of a moving light source (MOLIS) for large-area lithography applications, in which the light source path speed, elevation, and movement pattern can be used to smooth out any spatial variations in source light intensity profiles, and deliver a defined and uniform cumulative UV exposure dose to a photoresist-coated substrate. By repurposing a 3D printer and UV-LED flashlight, we constructed an inexpensive MOLIS platform, simulated and verified the parameters needed to produce a uniform UV dose exposure, and demonstrate this approach for SU-8 microfabrication of features with dimensions relevant to many areas in biomedical engineering. The ready accessibility and inexpensive nature of this approach may be of considerable value to small laboratories interested in occasional and low-throughput prototype microfabrication applications.
Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.
Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,001 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,001 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».