In Plasma ion beam analysis of polymer layer and adsorbed H monolayer etching
Pourquoi ce travail est dans la base
Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.
Notice bibliographique
Résumé
We present two experiments where a layer is plasma-etched while monitoring its evolution by in plasma ion beam analysis. First, we etch a photoresist with a diffuse O 2 plasma at low pressure. Using a 4.335 MeV He beam, Rutherford Backscattering Spectrometry and Elastic Recoil Detection spectra are acquired every minute during 8 h. Etching of most elements follows a linear trend, but H desorbs faster at the beginning of the plasma process, which we ascribe to the ion beam-induced desorption. In addition, we observe a thin Mo layer building up at the surface, likely due to the sputtering of an electrode in the plasma source. Secondly, we etch in HF a crystalline Si (c-Si) sample with < 100 > surface orientation, which should leave 14 H/nm 2 bonded to the c-Si surface. The sample is then introduced in the chamber and exposed to a diffuse Ar plasma at low pressure. During plasma processing, the H surface concentration is monitored using a resonant nuclear reaction with a 15 N beam at 6.385 MeV. The initial H concentration is 11 . 7 ± 1 . 1 H/nm 2 , and it decreases over a 3-minute timescale to an equilibrium concentration of 6 . 0 ± 0 . 8 H/nm 2 . Over the range of experimental conditions investigated, the diffuse Ar plasma is therefore not able to entirely sputter the H from the c-Si surface.
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Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,001 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,001 | 0,001 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,001 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
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score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle