In Plasma ion beam analysis of polymer layer and adsorbed H monolayer etching
Notice bibliographique
Résumé
We present two experiments where a layer is plasma-etched while monitoring its evolution by in plasma ion beam analysis. First, we etch a photoresist with a diffuse O2 plasma at low pressure. Using a 4.335 MeV He beam, Rutherford Backscattering Spectrometry and Elastic Recoil Detection spectra are acquired every minute during 8 h. Etching of most elements follows a linear trend, but H desorbs faster at the beginning of the plasma process, which we ascribe to the ion beam-induced desorption. In addition, we observe a thin Mo layer building up at the surface, likely due to the sputtering of an electrode in the plasma source. Secondly, we etch in HF a crystalline Si (c-Si) sample with <100> surface orientation, which should leave 14 H/nm2 bonded to the c-Si surface. The sample is then introduced in the chamber and exposed to a diffuse Ar plasma at low pressure. During plasma processing, the H surface concentration is monitored using a resonant nuclear reaction with a 15N beam at 6.385 MeV. The initial H concentration is 11.7±1.1 H/nm2, and it decreases over a 3-minute timescale to an equilibrium concentration of 6.0±0.8 H/nm2. Over the range of experimental conditions investigated, the diffuse Ar plasma is therefore not able to entirely sputter the H from the c-Si surface.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,002 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».