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Constructeur de cohorte

4 299 418 travaux, canadiens par l’une de quatre routes.

Chaque état de filtre est une URL; l’URL est la requête; la requête est citable via /q/⟨hash⟩. La page, l’API et l’export analysent les mêmes paramètres.

La cohorte courante, diffusée en continu depuis la base de données : toutes les colonnes des travaux, les étiquettes machine, les scores provisoires et l'état de validation de chaque rangée. Les exportations sont plafonnées à 100 000 rangées. Crée un lien /q/ permanent pour cette requête exacte. Les mêmes filtres produisent toujours le même lien, qui que soit le demandeur.

Terme de recherche
Auteur ou autrice
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Revue
Sujet
Advancements in Photolithography Techniques
Rétractation
Résumé
Source des données probantes
Devis d'étude
Accord des étiquettes
État des étiquettes

Les étiquettes directes de Codex et Gemma sont non validées et clairsemées. Les prédictions distillées couvrent la base complète et sont elles aussi non validées. Choisissez explicitement la source; l'absence d'une étiquette directe n'est jamais une étiquette négative.

affaffiliation
fundbailleur
venuerevue
aboutsujet

Les quatre voies se composent : exigez la voie du financement et excluez l'affiliation pour obtenir la strate financée-seulement qu'aucune base fondée sur l'affiliation ne voit jamais.

180 résultats · 1 filtre actif ·
Résultats par année
20002025
Date de publication
Catégories
Étiquettes machine · couverture clairsemée
Preuves
Langue
Type
Citations
Un travail non étiqueté est inconnu, pas un négatif. La couverture est rapportée à chaque requête.
180 travaux dans la cohorte · sur 4 299 418page 2 sur 4

Les étiquettes couvrent 0 des 180 travaux de cette cohorte. Les autres sont non étiquetés, ce qui n'est pas une étiquette négative : la table des étiquettes est clairsemée aujourd'hui et s'enrichit au fil des rondes d'étiquetage.

Les prédictions distillées couvrent 180 des 180 travaux de cette cohorte. Ces prédictions portent le statut machine_predicted_unvalidated. Le mode candidate est l'union; le consensus est l'intersection.

affaboutnon étiqueté
Polymer-based X-ray masks patterned by direct laser writing
Sven Achenbach, Garth Wells, Michael Jacobs, Banafsheh Moazed, Swathi Iyer, Jack Hanson
2018· article· en· Review of Scientific Instruments· Engineering
prédiction distillée:candidate · aucuneconsensus · aucune
8
citations
afffundnon étiqueté
A Parametric DFT Scheme for STT-MRAMs
Govind Radhakrishnan, Youngki Yoon, Manoj Sachdev
2019· article· en· IEEE Transactions on Very Large Scale Integration (VLSI) Systems· Engineering
prédiction distillée:candidate · metaepi_narrowconsensus · aucune
8
citations
affnon étiqueté
Realizing "value-added" metrology
Benjamin Bunday, Pete Lipscomb, John A. Allgair, Dilip Patel, Mark Caldwell, Eric Solecky +11 autres
2007· article· en· Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE· Engineering
prédiction distillée:candidate · metaepi_narrowconsensus · aucune
6
citations
affsans résuménon étiqueté
Patterning Challenges in Microelectronics
S. Barnola, N. Possémé, S. Landis, Maxime Darnon
2017· book-chapter· en· Elsevier eBooks· Engineering
prédiction distillée:candidate · metaepi_narrowconsensus · aucune
6
citations
affnon étiqueté
<title>Vacuum spark point source for x-ray/EUV lithography</title>
Xioming Guo, Meisheng Xu, Rubin Ye, Chaofeng Huang, Kazimierz W. Wirpszo, Emilio Panarella
2001· article· en· Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE· Engineering
prédiction distillée:candidate · metaepi_narrowconsensus · aucune
5
citations
affnon étiqueté
Status of EUV reticle handling solution in meeting 32 nm HP EUV lithography
Long He, Stefan Wurm, Phil Seidel, Kevin J. Orvek, Ernie Betancourt, Jon Underwood
2008· article· en· Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE· Engineering
prédiction distillée:candidate · metaepi_narrowconsensus · aucune
5
citations
affnon étiqueté
bids-standard/pybids: 0.9.3
Tal Yarkoni, Christopher J. Markiewicz, Alejandro de la Vega, Krzysztof J. Gorgolewski, Yaroslav O. Halchenko, Taylor Salo +30 autres
2019· article· en· Figshare· Engineering
prédiction distillée:candidate · insufficient_payloadconsensus · insufficient_payload
4
citations
affsans résuménon étiqueté
FET-SEED Smart Pixel Layout Extraction And Simulation
A.Z. Shang, David V. Plant, H.S. Hinton
2005· article· en· Proceedings of IEE/LEOS Summer Topical Meetings: Integrated Optoelectronics· Engineering
prédiction distillée:candidate · metaepi_narrowconsensus · aucune
4
citations
aboutno affnon étiqueté
The overview of 2013 CAD contest at ICCAD
Iris Hui-Ru Jiang, Zhuo Li, Hwei-Tseng Wang, V. Natarajan
2013· article· en· International Conference on Computer Aided Design· Engineering
prédiction distillée:candidate · aucuneconsensus · aucune
4
citations
affnon étiqueté
Improving the optical characteristics of bimetallic grayscale photomasks
James M. Dykes, David K. Poon, Jun Wang, Jimmy T. K. Tsui, Glenn H. Chapman
2007· article· en· Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE· Engineering
prédiction distillée:candidate · metaepi_narrowconsensus · aucune
3
citations
affnon étiqueté
The ROI of Metrology
B Bunday, John A. Allgair, Mark Caldwell, Chas Archie, Eric Solecky, Bryan J. Rice +2 autres
2006· article· en· IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing conference proceedings· Engineering
prédiction distillée:candidate · aucuneconsensus · aucune
3
citations
affnon étiqueté
Progress of FRIB SRF Production
Ting Xu, Hiroyuki Ao, Brian M. Bird, Nathan Bultman, F. Casagrande, Chris Compton +30 autres
2017· article· en· JACOW· Engineering
prédiction distillée:candidate · aucuneconsensus · aucune
2
citations
affnon étiqueté
New EUV mask blank for N3 technology node and beyond
Shihao Yang, Wei‐Ting Chen, Chung Yang Huang, Chien-Min Lee, Joy Huang, Shy-Jay Lin +4 autres
2023· article· en· Engineering
prédiction distillée:candidate · aucuneconsensus · aucune
2
citations

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