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Constructeur de cohorte

4 299 418 travaux, canadiens par l’une de quatre routes.

Chaque état de filtre est une URL; l’URL est la requête; la requête est citable via /q/⟨hash⟩. La page, l’API et l’export analysent les mêmes paramètres.

La cohorte courante, diffusée en continu depuis la base de données : toutes les colonnes des travaux, les étiquettes machine, les scores provisoires et l'état de validation de chaque rangée. Les exportations sont plafonnées à 100 000 rangées. Crée un lien /q/ permanent pour cette requête exacte. Les mêmes filtres produisent toujours le même lien, qui que soit le demandeur.

Terme de recherche
Auteur ou autrice
Période
Ordre
Langue
Type
Domaine
Revue
Sujet
Advancements in Photolithography Techniques
Rétractation
Résumé
Source des données probantes
Devis d'étude
Accord des étiquettes
État des étiquettes

Les étiquettes directes de Codex et Gemma sont non validées et clairsemées. Les prédictions distillées couvrent la base complète et sont elles aussi non validées. Choisissez explicitement la source; l'absence d'une étiquette directe n'est jamais une étiquette négative.

affaffiliation
fundbailleur
venuerevue
aboutsujet

Les quatre voies se composent : exigez la voie du financement et excluez l'affiliation pour obtenir la strate financée-seulement qu'aucune base fondée sur l'affiliation ne voit jamais.

180 résultats · 1 filtre actif ·
Résultats par année
20002025
Date de publication
Catégories
Étiquettes machine · couverture clairsemée
Preuves
Langue
Type
Citations
Un travail non étiqueté est inconnu, pas un négatif. La couverture est rapportée à chaque requête.
180 travaux dans la cohorte · sur 4 299 418page 1 sur 4

Les étiquettes couvrent 0 des 180 travaux de cette cohorte. Les autres sont non étiquetés, ce qui n'est pas une étiquette négative : la table des étiquettes est clairsemée aujourd'hui et s'enrichit au fil des rondes d'étiquetage.

Les prédictions distillées couvrent 180 des 180 travaux de cette cohorte. Ces prédictions portent le statut machine_predicted_unvalidated. Le mode candidate est l'union; le consensus est l'intersection.

affnon étiqueté
Simulation of electron beam lithography of nanostructures
Maria Stepanova, Taras Fito, Z. Szabó, Kamlesh Alti, Adegboyega P. Adeyenuwo, K. Koshelev +2 autres
2010· article· en· Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena· Engineering
prédiction distillée:candidate · aucuneconsensus · aucune
39
citations
affnon étiqueté
Tilted nanostructure fabrication by electron beam lithography
Jian Zhang, Babak Shokouhi, Bo Cui
2012· article· en· Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena· Engineering
prédiction distillée:candidate · metaepi_narrowconsensus · aucune
19
citations
affnon étiqueté
Progress toward a raster multibeam lithography tool
S. T. Coyle, Bassam Shamoun, Mingzhu Yu, José R. Maldonado, Timothy A. Thomas, Douglas E. Holmgren +4 autres
2004· article· en· Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena· Engineering
prédiction distillée:candidate · metaepi_narrowconsensus · aucune
18
citations
affnon étiqueté
BiIn: a sensitive bimetallic thermal resist
Glenn H. Chapman, Richard Tu, Marinko V. Šarunic, Jagjot Dhaliwal
2001· article· de· Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE· Engineering
prédiction distillée:candidate · metaepi_narrowconsensus · aucune
16
citations
afffundnon étiqueté
Helium ion beam lithography and liftoff
Sabaa Rashid, Jaspreet Walia, Howard Northfield, Choloong Hahn, Anthony Olivieri, Antonio Calà Lesina +4 autres
2021· article· en· Nano Futures· Engineering
prédiction distillée:candidate · aucuneconsensus · aucune
14
citations
afffundnon étiqueté
Lithography-Aware Analog Layout Retargeting
Xuan Dong, Lihong Zhang
2015· article· en· IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems· Engineering
prédiction distillée:candidate · metaepi_narrowconsensus · aucune
14
citations
affnon étiqueté
Evaluation of High and Low Activation Resists for EUV Lithography
James W. Thackeray, Roger A. Nassar, Kathleen Spear-Alfonso, Tom Wallow, Bruno LaFontaine
2006· article· en· Journal of Photopolymer Science and Technology· Engineering
prédiction distillée:candidate · aucuneconsensus · aucune
12
citations
affnon étiqueté
Nanoscale resist morphologies of dense gratings using electron-beam lithography
Mohammad Mohammad, S. K. Dew, K. L. Westra, P. Li, Mirwais Aktary, Y. Lauw +2 autres
2007· article· en· Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena· Engineering
prédiction distillée:candidate · aucuneconsensus · aucune
11
citations
affsans résuménon étiqueté
Measurability of dumb hole radiation?
W. G. Unruh
2002· book-chapter· en· WORLD SCIENTIFIC eBooks· Engineering
prédiction distillée:candidate · metaepi_narrowconsensus · aucune
11
citations

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